اعلی طہارت نکل کے اہداف کا اطلاق

Nov 05, 2024

ایک پیغام چھوڑیں۔

1. سیمی کنڈکٹر مواد
دھاتی نکل پتلی فلموں کی تیاری میگنیٹک رینڈم ایکسیس میموری (MRAMs)، نیورل نیٹ ورک ڈیوائسز، تھرمو الیکٹرک میٹریل، اور سولر سیلز کی تیاری میں ایک اہم قدم ہے۔ کی پاکیزگیاعلی طہارت نکل اہدافبہت زیادہ ہے، جو سیمی کنڈکٹر مواد میں پتلی فلم کی تیاری کے لیے سخت تقاضوں کو پورا کر سکتا ہے اور آلات کی کارکردگی اور استحکام کو یقینی بنا سکتا ہے۔

2. آپٹو الیکٹرانکس اور ڈسپلے ڈیوائسز
آپٹیکل الیکٹرانکس کے شعبے میں، مختلف آپٹیکل فلموں کی تیاری کے لیے ہائی پیوریٹی نکل ٹارگٹ استعمال کیے جاتے ہیں، جیسے عکاس فلمیں، فلٹر فلمیں، وغیرہ۔ یہ فلمیں آپٹیکل آلات کی کارکردگی اور استحکام کو بہتر بنانے میں اہم کردار ادا کرتی ہیں۔ ڈسپلے ڈیوائسز کے میدان میں، شفاف کنڈکٹیو آکسائیڈ (TCO) فلموں کی تیاری کے لیے ہائی پیوریٹی نکل اہداف استعمال کیے جاتے ہیں، جیسے کہ ٹن آکسائیڈ (SnO2) فلمیں، جو فلیٹ پینل ڈسپلے، ٹچ اسکرینز اور دیگر کی تیاری میں کلیدی کردار ادا کرتی ہیں۔ آلات

3. شمسی خلیات
شمسی خلیوں میں شفاف کوندکٹو آکسائیڈ فلموں کی تیاری کے لیے ایک اہم مواد کے طور پر، اعلیٰ طہارت والے نکل اہداف فوٹو الیکٹرک کنورژن کی کارکردگی اور شمسی خلیوں کے استحکام کو بہتر بنانے میں اہم اطلاقی قدر رکھتے ہیں۔

Zhenan اعلی طہارت نکل ہدف مصنوعات کی نمائش

9999 Pure Nickel Sputtering Target

Nickel Alloy Target