ٹنگسٹن پلیٹ کی کیمیائی خصوصیات بمقابلہ ٹینٹلم پلیٹ کی کیمیائی خصوصیات

Apr 08, 2025

ایک پیغام چھوڑیں۔

سنکنرن مزاحمت:
ٹنگسٹن پلیٹ: کیمیائی خصوصیات کمرے کے درجہ حرارت پر مستحکم ہیں ، اور اس میں کچھ کیمیائی ریجنٹس کے لئے کچھ سنکنرن مزاحمت ہوتی ہے ، لیکن کیمیائی رد عمل مخصوص ماحول جیسے اعلی درجہ حرارت ، مضبوط تیزاب اور الکالی کے تحت ہوسکتا ہے۔
ٹینٹلم پلیٹ: اس میں عمدہ سنکنرن مزاحمت ہے اور کیمیائی صنعت میں اکثر کیمیائی ری ایکٹرز ، ہیٹ ایکسچینجرز ، اسٹوریج ٹینک اور دیگر سامان تیار کرنے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے۔

آکسیکرن مزاحمت:
ٹنگسٹن پلیٹ: یہ اعلی درجہ حرارت پر آسانی سے آکسائڈائزڈ ہوتا ہے اور اس پر کارروائی کرنے اور کسی مخصوص حفاظتی ماحول میں استعمال کرنے کی ضرورت ہوتی ہے۔
ٹینٹلم پلیٹ: کمرے کے درجہ حرارت پر سطح پر ایک گھنے آکسائڈ فلم تشکیل دی جائے گی ، جس میں آکسیکرن کی اچھی مزاحمت ہے۔
مکینیکل خصوصیات

طاقت:
ٹنگسٹن پلیٹ: ٹنگسٹن پلیٹ میں اعلی طاقت ، یکساں داخلی ڈھانچہ ، عمدہ اناج ہے ، اور پروسیسنگ کے بعد بڑی بیرونی قوتوں کا مقابلہ کرسکتا ہے۔
ٹینٹلم پلیٹ: طاقت ٹنگسٹن پلیٹ کی نسبت کم ہے ، لیکن اس میں کچھ طاقت اور سختی بھی ہے ، جو عام صنعتی ایپلی کیشنز کی ضروریات کو پورا کرسکتی ہے۔

اعلی درجہ حرارت کریپ مزاحمت:
ٹنگسٹن پلیٹ: اس میں اعلی درجہ حرارت اور طویل مدتی کارروائی کے تحت بہترین درجہ حرارت کے کریپ مزاحمت بہترین ہے اور یہ آسان نہیں ہے۔
ٹینٹلم پلیٹ: اس میں اعلی درجہ حرارت پر بھی اچھا استحکام ہوتا ہے ، لیکن اس کا درجہ حرارت رینگناہ درجہ حرارت ٹنگسٹن پلیٹ سے قدرے کمتر ہے۔

ٹنگسٹن پلیٹ پروڈکٹ کی تفصیلات تصویر ڈسپلے

W sheet

ٹنگسٹن پلیٹ

W plate

ڈبلیو پلیٹ

ٹینٹلم پلیٹ پروڈکٹ کی تفصیلات تصویر ڈسپلے

Tantalum plate factory

ٹینٹلم پلیٹ

Tantalum Alloy plate factory

ٹین پلیٹ