ٹنگسٹن اہداف بہت سے شعبوں میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں، جن میں بنیادی طور پر سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ، سپلیشن نیوٹران سورس ڈیوائسز، فوٹو لیتھوگرافی کے عمل، پتلی فلم جمع کرنے والی ٹیکنالوجی، نیوکلیئر فیوژن ڈیوائسز وغیرہ شامل ہیں۔
سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ میں درخواست
سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ میں، ٹنگسٹن اہداف بنیادی طور پر فوٹو لیتھوگرافی کے عمل اور پتلی فلم جمع کرنے والی ٹیکنالوجی میں استعمال ہوتے ہیں۔ ٹنگسٹن اہداف کی اعلی کثافت، زیادہ سختی اور کم کیمیائی رد عمل انہیں پلازما اینچنگ کے دوران ٹھیک ٹھیک اینچنگ کنٹرول فراہم کرنے، غیر ضروری مواد کے نقصان کو کم کرنے، اور سرکٹ پیٹرن کی خوبصورتی اور سالمیت کو یقینی بنانے کے قابل بناتا ہے۔ پتلی فلم جمع کرنے والی ٹیکنالوجی میں، ٹنگسٹن کے اہداف کو جسمانی بخارات جمع کرنے (PVD) اور کیمیائی بخارات جمع (CVD) کے ذریعے گھنے فلموں میں بنایا جاتا ہے۔ ان فلموں میں سختی اور پہننے کی مزاحمت زیادہ ہوتی ہے، جو سیمی کنڈکٹر آلات کی میکانکی طاقت اور استحکام کو بہتر بناتی ہے۔ ایک ہی وقت میں، ان کی اعلی چالکتا اور کم رکاوٹ موجودہ ترسیل کی کارکردگی کو بہتر بنانے اور بجلی کی کھپت کو کم کرنے میں مدد کرتی ہے۔ میں
سپلیشن نیوٹران ذرائع میں درخواست
ٹنگسٹن اہداف سپلیشن نیوٹران سورس ڈیوائسز میں بھی کلیدی کردار ادا کرتے ہیں۔ سپلیشن نیوٹران ذرائع اعلی توانائی والے پروٹون کے ساتھ بھاری ایٹمی نیوکلی پر بمباری کرکے نیوٹران تیار کرتے ہیں، جو مادے کی مائیکرو اسٹرکچر اور متحرک خصوصیات کا مطالعہ کرنے کے لیے استعمال ہوتے ہیں۔ ٹنگسٹن اپنے اعلی پگھلنے کے نقطہ، اعلی تھرمل چالکتا اور کم پھٹنے کی شرح کی وجہ سے نیوکلیئر فیوژن ڈیوائسز اور سپلیشن نیوٹران ذرائع کے لیے ترجیحی مواد بن گیا ہے۔ سپلیشن نیوٹران ذرائع نیوٹران سائنس ریسرچ کے دائرہ کار کو بڑھاتے ہوئے، خاص طور پر میٹریل سائنس ریسرچ میں وسیع نیوٹران انرجی سپیکٹرم فراہم کر سکتے ہیں۔ ٹنگسٹن اہداف کا اطلاق ہائیڈروجن ذخیرہ کرنے والے مواد، بیٹری کے رد عمل کے قوانین، اور نئے مواد تیار کرنا ممکن بناتا ہے۔